中微5nm刻蚀机获认可，中国芯“弯道超车”？尹志尧博士一语中的

从去年开始，中微5纳米刻蚀机被台积电认可，即将打入台积电5纳米芯片生产线的消息就传出来了，而据最新消息，今年确实已经正式投入生产。对此消息，网上议论纷纷，其中有个论调是这样说“中国芯片行业弯道超车”。

中微5纳米刻蚀机研发乐成的意义，是不是有那么重大，是不是真的能让中国芯片行业“弯道超车”呢？还是被夸大，言过其实呢？

中微的技术突破

据悉，近几年来，我国的芯片制造设备 95%依赖于入口，焦点设备基本上被外洋公司垄断，我们亟需国产设备制造企业，而中微可以说是当中的佼佼者。

2004年，尹志尧与杜志游、倪图强等40多位半导体设备博士、专家配合开办了中微公司。近年来，中微向全球的微观加工高端设备公司提供服务，在半导体市场获得极高的评价，在多个技术领域跻身国际一流水平。例如： 在全球薄膜沉积设备供应商排名中荣登榜首；在刻蚀和清洗设备供应商排名中位列第二；在台湾晶圆制造设备供应商排名中也仅次于荷兰半导体设备巨头ASML。

现在，中微自主研发的5纳米等离子刻蚀机也被台积电认可，投入生产线使用。

什么是刻蚀机？

刻蚀机是芯片制造中的一种关键设备，用于芯片上微观镌刻，每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之一到上万分之一，精度控制要求很是高。

这绝对是值得我们欣喜的事，可是这项技术的突破是不是能领导我们芯片行业迅速生长，到达“弯道超车”的效果呢？我们确实需要岑寂思考一下。

刻蚀只是芯片制造的工序之一

IC业界电子工程师张光华：“一两年前网上就有中微研制5纳米刻蚀机的报道。如果能在台积电应用，简直说明中微到达世界领先水平。但说中国芯片‘弯道超车’就是夸大其词了。”

他还表现，芯片制造的整个工序，都需要庞大的技术，而我国现在在大部门工序上都要落伍于西方国家。为什么这么说呢？

据相识，芯片的整个制造流程极其庞大，包罗切割晶圆、涂膜、光刻、刻蚀、掺杂、测试等等工序，刻蚀只是整个庞大工序中的一道工序。从技术层面上说，光刻机的研发才是最困谁人，而刻蚀机的难度就相对低一些，现在的刻蚀机细密度水平已经远超光刻机的精度水平，所以现在芯片最大的难题，不在刻蚀精度上，而在光刻精度上，换句话说，芯片制造的技术水平是由光刻机决议的。

而从工序设备占所有制造设备投入比例来说，光刻机差不多占所有制造设备投入的25%、刻蚀机占所有制造设备投入的15%，也在一定水平上说明这两种设备谁更庞大，谁更重要。

在这点上，就连中微自己，也没有我们那么乐观。中微尹志尧博士就很抗拒‘弯道超车’这样的高帽子。尹志尧博士曾表现，“不要老把工业的生长提高到另一高度，更不要让一些新闻人和媒体搞吸引眼球的不实报道。对我和中微的夸大宣传搞得我们很被动……过一些时候，又洗面革心登出来，实在让我们头痛。”

所以，中微5纳米刻蚀机打入台积电生产线，是我国在芯片制造工艺中的重大突破，其意义重大，但“弯道超车”的言论，有些言过其实，言之过早了。

路很长，但我们会越来越快

固然，我们也不能太过妄自肤浅，长他人志气，灭自己威风，我们的生长是切切实实的，我们的多项技术已经居世界前茅甚至首位，打破外洋的垄断职位和封锁，也是不争的事实。

就好比中微5纳米刻蚀机，确实已经处于国际一流水平，而且打破了美德的垄断，让美国认识到中微在中国大陆可以做出在国际有同样竞争力的刻蚀机，决议把刻蚀机从美国对中禁售的票据上去掉。

再好比华为的5G技术，是将引领通信行业生长，制定行业规则和尺度的国际领先技术。等等……

所以，我们前面的路还很长，也许‘弯道超车’的可能性低之又低，但我们会走得越来越稳、越来越快。今天能有了第一台5纳米刻蚀机制造者，明天就能有第一台5纳米光刻机，彼时，我们可以说“中国芯片生产技术终于突破西欧封锁，第一次占领世界制高点”。