如果自研光刻机和建设对撞机二选一，该怎么选

光刻机技术属于应用技术，对撞机则属于基础科学领域，二者不在一个技术层别：光刻机解决的是人类现实需求的问题，而电子对撞机可以资助人类解决“从哪来，到哪去”这一类的关乎人类运气与生长的问题。

粒子对撞机的作用

粒子对撞机是在高能同步加速器基础上生长起来的一种装置，其主要作用是积累并加速相继由前级加速器注入的两束粒子流，到一定束流强度及一定能量时使其在相向运动状态下举行对撞。通过研究高能粒子碰撞时发生的种种反映研究其反映的性质，发现新粒子、新现象。

粒子对撞机凭据其加速的工具是电子还是质子，分为电子对撞机和质子对撞机。

粒子对撞机的研究效果，可以资助人类进一步认清微观世界和宇宙的组成与纪律，富厚人类的基础科学理论，进而促进应用技术的生长。

粒子对撞机对科技进步的资助

通过对粒子对撞机实验效果的研究，并将其研究效果应用于笼罩广泛的应用技术学科中，如质料学、化工学、生物学、情况科学、地球科学、物理学、微电子技术、微机械技术等一大批应用技术学科的生长和工业应用，缔造出了用以解决人类实际问题的工业产物。

光刻机的生长极限

众所周知，光刻的作用就是为人类制造种种各样的芯片。随着技术的生长，光刻机已经生长到了极紫外光光刻机的（EUV）的水平，已经靠近了物理极限：紫外光的波长是最小的。

同时现有芯片使用的都是硅基质料，随着技术的进一步生长，硅基质料将的量子效应的会严重出现，无法再体现出0和1这一数字电路的逻辑基础，芯片的逻辑盘算能力将会消失。

现阶段，芯片的最先进的制造技术已经来到了5nm，还会向着3nm甚至1nm生长，越来越靠近于硅基质料的物理极限。人类急需找出可以替代硅基质料的新质料，用于制造新的芯片。而很有可能新质料芯片的制造，将不再需要光刻机的资助。

我国现阶段落伍的光刻机技术，确实限制了我国芯片制造业的生长与竞争力的提升，可是留给我们的时间已经不多了，因为现有芯片制造技术已经越来越迫近物理极限了。纵然是经由长时间、高投入的研究后，我国乐成研发出媲美世界领先水平的光刻机，却很有可能面临很快被淘汰的现实。那还不如将这些资金投入到对撞机的研究中去，另辟蹊径，生长出一种全新的芯片技术来。