中国真的造不出光刻机吗？ASML总裁：中国永远无法模拟EUV光刻机

众所周知，随着中国制造向中国智能制造的转变，中国已经凌驾美国成为全球最大的芯片消费国，世界芯片制造工业也不行制止地向中国转移。虽然中国每年入口的芯片凌驾了3000亿美元，正在建设的晶圆厂也到达了57个，芯片工业生长得如火如荼，可是芯片制造最关键的环节光刻机却成了我国芯片工业的生长的死穴。因为中国只能生产90nm以上低端光刻机，而先进的高端光刻机都掌握在外洋厂商手里，甚至有钱也买不到。

春节前夕，荷兰ASML总裁Peter Wennink在ASML公司财报公布会上表现：中国永远无法模拟高端光刻机。这句话一方面是在回应美国担忧高端光刻机交付中国后可能造成的技术失窃问题，另一方面也是在告诉中国，中国是有着知识产权领域良好信誉的国家，而且中国绕不开ASML的技术专利。恒久以来，限于美国和欧洲签订有瓦森那协议，欧洲厂商不得把最先进的光刻机卖给中国，而且必须有美国发放的销售许可证，所以中芯国际2018年订购的最先进的EUV光刻机至今无法起运回国。

那么中国真的造不出高端EUV光刻机吗？谜底是肯定的，现在我国确实造不出这样的高端EUV光刻机。虽然中ASML高调表现，纵然没有美国的许可证也要卖给中国，但同时也表现：我们正在等候政府的许可证，如果最终等不到许可证，我们会将设备转卖给其他客户。由此看来，我们不仅造不出这样的高端EUV光刻机，即便想买到也没有这么容易，中芯国际订购的光刻机就是一个显着的例子。

高端EUV光刻机制造真的这么难吗？

据相识，ASML的高端EUV光刻机有80000个零部件，13个子系统，每一个子系统都是融合了该领域最顶尖的先进的技术，更况且ASML还拥有全球唯一无二的芯片曝光技术，这也是高端EUV光刻机的焦点技术。ASML之所以不怕中国模拟是因为他们把全球好几百家厂商的顶尖技术融为一体，举行了有有效的技术和系统集成，而且还在设备上安装有传感器，能够自动检测异常行为，也就是说，你要想深入研究设备的结构和组成，ASML总部就会报警。

现在，全球高端光刻机被ASML、尼康、佳能所垄断，2018年全球高端光刻机总计出货374台，其中ASML的高端光刻机销售量120台，10nm以下的EUV光刻机更是占据了全球100%的市场，甚至就连佳能、尼康险些已经退出10nm以下光刻机的市场。可是中国芯片工业生长如火如荼，却没有高端光刻机的支持，这也是为什么中国芯片工业生长缓慢的原因之一。

可是2018年底中科院传来了好消息，中科院光电所研发乐成了世界首台紫外超分辨率光刻机，该光刻机接纳可通过多重曝光生产22nm芯片。特别值得一提的是，这台光刻机绕过了ASML等对外洋光刻机高分辨率装备专利的技术壁垒，从光刻机原理上走出了一条具有自主知识产权的研发门路，为我国先进光刻机的生长打下了良好的技术基础。

虽然这台设备技术上前景很牛，通过多重曝光技术甚至可以生产10nm以下的芯片，要想真正用于芯片制造必须要流程再造，可是有志者事竟成，究竟商业化之路是很漫长的。只管如此，这台光刻机的研发乐成对我国光刻机进步的意义是不言而喻的，可以说是开发了有别于外洋光刻机的技术路径，实现了中国真正自主创新。

总之，中国芯片工业快速生长，光刻机已成为芯片工业的一只拦路虎，如果我们只是一味地去模拟ASML的技术路径，肯定是不行的。只有下定刻意，另辟蹊径，走出一条有别于ASML的技术途径，才有可能生产出真正有自主知识产权的国产光刻机，无疑，中科院光电所给我们做出了模范，给中国的芯片之路指明晰偏向。