继蚀刻机全球领先后，高能离子注入机打破垄断！光刻机也开始合围

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大家都知道，我国的芯片主要依赖入口，每年的芯片入口额度凌驾了石油，在入口商品中位列第一。世界上每生产5块芯片，中国就买走了3块。而芯片生产主要包罗设计和制造，芯片设计我国已到达领先水平，关键就是制造落伍。而芯片制造中设备是关键，其中包罗光刻机、蚀刻机、离子注入机等等，这些设备我们都在研发突破，下面带大家相识下这些设备国产化希望。

蚀刻机已到达全球领先

光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端芯片，这两个设备都必须顶尖。相对光刻来说，刻蚀相对简朴，但要将精度提升到5nm，那也是相当不容易的。我国在蚀刻机领域已经突破，中微半导体的5nm蚀刻机已通过台积电验证，并将用于今年的5nm芯片生产。中微的5nm蚀刻机，可以说是继华为5G之后，完全自主研发的顶尖技术。

外洋曾经将蚀刻机列入克制出售我国行列，但在中微突破之后，立刻取消限制并大幅降价！现在，中微半导体可以自主生产5nm蚀刻机，到达世界领先！这一切其实都要致敬中国第一代科研人一一年近60岁的尹志尧博士，领导众多优秀海归人才，回国开办了中微半导体，在团队对科技的不停探索下，短短10多年的时间，就攻破了5nm蚀刻机的瓶颈，让中国科技再一次实现了反逾越！

高能离子注入机又突破

离子注入机是芯片制造中仅次于光刻机、蚀刻机的关键装备。那么离子注入机在芯片制造历程中起什么作用呢？芯片制造时，需要掺入差别种类的元素按预定方式改变质料的电性能，这些元素以带电离子的形式被加速至预定能量并注入至特定半导体质料中，离子注入机即是执行这一掺杂工艺的芯片制造设备。

现在天我们要先容取得突破的是高能离子注入机，这是离子注入机中技术难度最大的机型。恒久以来，因其极大的研举事度和较高的行业竞争壁垒，被称为离子注入机领域的 “珠穆朗玛峰”，是我国集成电路制造装备工业链上亟待攻克的关键一环。

克日喜报传来，新华社报道，中国电子科技团体宣布，由该团体旗下电科装备自主研制的高能离子注入机乐成，实现百万电子伏特高能离子加速，性能到达国际先进水平。将在年底前推出首台高能离子注入机，并可以为全球芯片制造企业提供离子注入机成套解决方案。

高端光刻机也开始合围

光刻机是芯片制造中最关键的设备，而高端光刻机现在被荷兰垄断，也就是所说的EUV光刻机。由于我国受到《瓦森纳协定》的限制，许多高端技术被封锁，光刻机也是其中之一，再加上米国的限制，中芯国际2018年底全款订购的一台EUV光刻机，按计划应于去年底到货，到现在依然没有！不外，我国上海微电子也很争气，28nm光刻机预计明年出货，以前生产的90nm光刻机也是我国的中流砥柱，因为大部门的芯片不用那么高精度，这样我们的国防设备和大部门电子工业已经能够满足！

但我们依然在向高端EUV光刻机进军，因为高端手机和先进的5G依然会用到。其实，我国在EUV光刻机上的技术积累已是凌驾20多年了，别以为今天是匆匆应战的！现在已经开始向EUV领域展开全面合围，哈工大研发乐成EUV光源，华卓精科突破双工件台，国旺突破光学镜头，极紫外光刻（EUV）关键技术研究在长春景机所通过验收。这些都讲明，我国的高端光刻机正在突破，造出EUV光刻机不是没有可能！

结语：原理由于“造不如买”的错误认识，加上外洋对我国的技术封锁，导致我国在芯片行业的落伍。直到外洋的不停“卡脖子”封锁，我们才意识到掌握焦点科技的重要。然而因为欠账太多，而且外洋已经生长多年，我们想要追赶，连市场验证的时机都很小。现在因为米国的制裁加剧，我国芯片行业各领域迅猛生长，不停增强自主研发，差距正在逐渐缩小，只要有信心，一切皆有可能，因为我们已攻破了太多西方认为不行能的科技了！

那么，大家以为我国现在的芯片行业生长的怎么样，有没有信心反逾越呢？

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