中国光刻机技术没那么差!已经逾越日本,前方仅剩荷兰ASML

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近段时间,关于光刻机的新闻受到许多人的关注,美国在这一重要领域卡脖子,至关重要的芯片供应被停止,会极大地影响一国在相关领域的生长,许多人都担忧,我国会因为光刻机的短板而损失惨重。

对此,有媒体给出让人振奋的结论,我国在相关领域并不像许多人想象的那么被动,光刻机虽然被西欧垄断,而且我国在短时间内无法突破,可是实际上,我国在这一领域并不是一无是处,早在新中国建立后不久,我国就在相关行业开始投入资金举行探索,只是由于市场成本等多种原因,最终放弃,未能到达世界顶尖水平。

光刻机主要用于制造芯片,如今最高端的光刻机为7纳米制程,是现今世界上最高端光学和电子工业的集成,全世界只有少数几个国家和厂商完全掌握技术,其中最先进的当属荷兰ASML公司,ASML公司是全球最大的半导体设备制造商之一,专门生产最高端的光刻机,在光刻机领域,市场占有率靠近100%。

不外光刻机虽然很是重要,但出货量和需求其实并不大,凭据数据,前两年荷兰ASML公司仅售出44台EUV光刻机,虽然每台售价高达数千万甚至上亿美元,但如此少的数量足以证明,其市场很是狭窄,我国此前一直没有投入大量人力物力研发高端光刻机,也是受到这一因素的制约。

不外我国并不是没有能力生产光刻机,我国纯科研模式的光刻机已经成熟,8年前就开始研发和荷兰ASML公司接纳同样技术的EUV光刻机,如今已经可以生产28纳米工艺的国产光刻机,没有想要通过制约光刻机技术来停止我国相关工业的生长,终究只能是竹篮吊水一场空。

我国曾在许多领域缔造中国奇迹,在光刻机技术上,我国也有信心缔造新的奇迹,凭据报道,中芯国际已经可以量产14纳米的芯片,一旦光刻机技术跟上,量产7纳米制程,具备世界一流水平的芯片也只是时间问题。

我国已经开始对光刻机技术举行重点公关,如今我国的光刻机技术已经逾越日本,仅有荷兰ASML公司的技术在我们前面,举全国之力,我国一定会借此时机攻克难题,让我国在这一领域也走在世界前列,有足够强劲的硬实力,就算美国围追堵截也没用。